ISO 8650 AMD 1-1990 第1次修改

作者:标准资料网时间:2024-05-17 15:35:40 浏览:8520 来源:标准资料网

【英文标准名称】:Informationprocessingsystems;opensystemsinterconnection;protocolspecificationfortheassociationcontrolserviceelement;amendment1:authenticationduringassociationestablishment
【原文标准名称】:第1次修改
【标准号】:ISO8650AMD1-1990
【标准状态】:作废
【国别】:国际
【发布日期】:1990-12
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(ISO)
【起草单位】:ISO/IEC/JTC1
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:信息交流;信息处理;通信规程;信息交换;数据处理
【英文主题词】:informationexchange;informationprocessing;dataprocessing;communicationprocedures;informationinterchange
【摘要】:
【中国标准分类号】:L79
【国际标准分类号】:6983
【页数】:10P;A4
【正文语种】:英语

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基本信息

标准名称：	硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
英文名称：	Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry
中标分类：	冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属与半导体材料综合
ICS分类：	电气工程 >> 半导体材料
发布部门：	中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会
发布日期：	2009-10-30
实施日期：	2010-06-01
首发日期：	2009-10-30
作废日期：
主管部门：	国家标准化管理委员会
提出单位：	全国半导体设备和材料标准化技术委员会
归口单位：	全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
起草单位：	信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所
起草人：	何友琴、马农农、丁丽
出版社：	中国标准出版社
出版日期：	2010-06-01
页数：	12页
计划单号：	20070859-T-469

适用范围

本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。
本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。
本标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的测试。
本标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。

前言

没有内容

引用标准

没有内容

所属分类：冶金半金属与半导体材料半金属与半导体材料综合电气工程半导体材料

Product Code:SAE AS6625
Title:Spray Equipment, Aircraft Windshield, Anti-Icing
Issuing Committee:Ac-9c Aircraft Icing Technology Committee
Scope:This specification covers one type of spray equipment for the elimination of ice formation on aircraft windows.

标准资料网 http://std376.infoeach.com

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